Micron presenta la nuova Litografia a ultravioletti estremi (EUV) che sarà elaborata nella sua sede di Taiwan
Micron ha presentato la sua Litografia a ultravioletti estremi (EUV).che probabilmente sarà elaborata nella sua sede di Taiwan. Sebbene Micron (qui per maggiori informazioni) sia una società prevalentemente statunitense, ha anche alcune sedi in Giappone, Singapore, RPC e Taiwan. Molte di queste sono diventate parte di Micron dopo l’ acquisizione di altre compagnie.
Novità dal Computex
Sulla base della presentazione al Computex , Micron entro la fine dell’anno si prepara ad aggiornare uno dei suoi tre stabilimenti a Taichung con la tecnologia della litografia a ultravioletti estremi (EUV). Questo è in preparazione per il passaggio dell’azienda a quello che chiama il suo nodo di processo a 1-gamma per la DRAM. Inizialmente questo sembra essere un nodo di ricerca e sviluppo per aiutare l’azienda a prepararsi per un più ampio lancio della tecnologia EUV. L’attuale DRAM di Micron si basa sul suo nodo 1-alfa e prevede di spostare il suo nodo 1-beta nella produzione in serie il prossimo anno, nelle sue fabbriche di Taiwan.
L’attuale nodo 1-alfa di Micron si basa sulla tecnologia DUV ed è stato introdotto lo scorso anno, con la società che affermava di avere un miglioramento del 40% nella densità di memoria rispetto al suo precedente nodo 1Z. Si pensa che il suo nodo 1Z fosse compreso tra 11 e 13 nm. Quindi è probabile che il nodo 1-beta finisca al di sotto di 10 nm. La tabella di marcia a lungo termine di Micron include anche un nodo 1-delta, che doveva essere il suo primo prodotto EUV, ma ora sembra essere stato spostato al suo nodo 1-gamma.
Le nuove sedi per la Litografia a ultravioletti estremi EUV
È probabile che Micron sposterà anche le altre sue fabbriche su EUV a tempo debito, ma finora la DRAM non ha beneficiato tanto della riduzione dei nodi rispetto alla maggior parte degli altri tipi di circuiti integrati. Quindi sarà interessante vedere gli effettivi miglioramenti che EUV potrebbe portare.
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